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Pd-Cu bimetallic surfaces formed through a vacuum-deposition of Pd on Cu(1 1 1) have been discussed on the basis of carbon monoxide (CO) adsorption: CO is used as a surface probe and infrared reflection absorption (IRRAS) spectra are recorded for the CO-adsorbed surfaces. Low energy electron diffraction (LEED) patterns for the bimetallic surfaces reveal six-fold symmetry even after the deposition of 0.6 nm. The lattice spacings estimated by the separations of reflection high-energy electron diffraction (RHEED) streaks increase with increasing Pd thickness. Room-temperature CO exposures to the bimetallic surfaces formed by the Pd depositions less than 0.3 nm thickness generate the IRRAS bands due to the three-fold-hollow-, bridge- and linear-bonded CO to Pd atoms. In particular, on the 0.1 nm-thick Pd surface, the linear-bonded CO band becomes apparent at an earlier stage of the exposure. In contrast, the bridge-bonded CO band dominates the IRRAS spectra for CO adsorption on the 0.6 nm-thick Pd surface, at which the lattice spacing corresponds to that of Pd(1 1 1). A 90 K-CO exposure to the 0.1 nm-thick Pd surface leads to the IRRAS bands caused not only by CO-Pd but also by CO-Cu, while the Cu-related band is almost absent from the spectra for the 0.3 nm-thick Pd surface. The results clearly reveal that local atomic structures of the outermost bimetallic surface can be discussed by the IRRAS spectra for the probe molecule.  相似文献   
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Tetraethoxysilane (TEOS) and polyethoxysiloxanes (PEOSs; prepared by the acid‐catalyzed hydrolytic polycondensation of TEOS) were subjected to the sol–gel process in the presence of cetyltrimethylammonium bromide (CTAB), respectively. The PEOSs with Mw 700–26,000, as prepared by sol–gel coating of TEOS and PEOS under various conditions, were used. Uniform and crack‐free thin films of thickness 276–613 nm were prepared by spin‐coating of a PEOS solution containing CTAB. When the coating films were sintered at 400 °C, the combustion of ethoxy groups and CTAB took place to provide porous silica thin films. The structure of the thin films was found to be dependent on the molecular weight of PEOS and the molar ratio of CTAB/Si: lamellar or hexagonal phase was observed for Mw less than 15,000 and for CTAB/Si molar ratios greater than 0.10. Honeycomb structures were observed for Mw less than 5000 and for CTAB/Si molar ratios of 0.15. The honeycomb structure was also observed by atomic force microscopy and transmission electron microscope. © 2006 Wiley Periodicals, Inc. J Polym Sci Part A: Polym Chem 44: 2542–2550, 2006  相似文献   
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